Opis
DUAL POLISHING MASK czyli maska przeznaczona do peelingu i polerowania, która pozostawia skórę gładką, przyjemną w dotyku i natychmiastowo promienną! Ma podwójne działanie – peeling, czyli oczyszcza i wygładza skórę oraz maska, która podczas kontaktu ze skórą uwalnia odżywcze składniki aktywne. Fazę peelingu i maski odróżnia aktualny kolor produktu.
Składniki aktywne:
TRIBEHENIN – Powstaje z połączenia gliceryny i kwasu tłuszczowego (kwas sebumowy), znany jako kwas behanowy. Szczególnie polecany do skóry suchej, odwodnionej i wrażliwej, ponieważ pomaga w odbudowie bariery lipidowej skóry i zapobiega transepidermalnej utracie wody.
PROSZEK Z NASION MORELI (PRUNUS ARMENIACA) – Proszek z nasion moreli ma właściwości złuszczające, doskonale usuwa martwe komórki naskórka. Dzięki drobnej strukturze zapewnia delikatne, a zarazem skuteczne oczyszczanie, pozostawiając skórę miękką, gładką i promienną. Pomaga w odblokowywaniu porów, redukując ryzyko powstawania zaskórników. Odpowiedni dla skóry wrażliwej i delikatnej.
HIALURONIAN SODU – Pochodna kwasu hialuronowego, składnik, który zapewnia zewnętrzne nawilżenie. Jednocześnie powoduje, że skóra samodzielnie wytwarza wilgoć, przywracając jej elastyczność i jędrność. Zapewnia skórze nawilżenie, ułatwia jej odżywianie i chroni przed wolnymi rodnikami.
BISABOLOL – Ma działanie kojące, przeciwzapalne, łagodzące, przeciwinfekcyjne i rozjaśniające. Jest przeciwutleniaczem i widocznie redukuje oznaki starzenia.
PANTHENOL – Posiada działanie przeciwzapalne, przyspiesza procesy regeneracji naskórka, łagodzi podrażnienia, nawilża – poprawia możliwość wiązania wody.
Sposób użycia:
- Przed użyciem lekko zwilż dłonie, nałóż i masuj okrężnymi ruchami.
- Pozostaw na 2 minuty i zmyj.
*** Świetnie nadaje się do stosowania pod prysznicem!
Ważne wskazówki:
- Nakładaj palcami, bez użycia wacika lub aplikatora.
- Przed i po zastosowaniu należy umyć ręce.
- Postępuj zgodnie z instrukcją stosowania i nie przekraczaj dziennej liczby aplikacji.
- Nie odstępuj od instrukcji stosowania, nie szukaj „szybkiego rozwiązania” ani nie stosuj zbyt dużej ilości.
